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    反滲透設備

    整體概述

    我司生產的工業反滲透設備主要用于工業生產用水的純水制取裝置??梢杂糜冢汗怆娦袠I用水制取、精細化工行業用水制取、電鍍涂裝行業用水制取、電子半導體行業超純水制取、精密機械行業用水制取、電廠鍋爐行業用水制取、代替各類蒸餾水及超純水供水等。本公司可根據不同需要定制生產。 從1T/H到1000T/H均可承接。

    產品分類

    根據各行業工藝用水要求不同和原水水質不同,可定制不同的工業反滲透設備達到用水標準。

      

    工業反滲透設備工藝

    工業反滲透設備需要根據實際用水要求配置不同的工藝流程,各行業的用水標準不同,如電阻分為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm等標準,電導率從20uS/cm-0.1uS/cm不等,因此需要針對不同標準配置不同的預處理系統、單級雙級反滲透工藝,后處理系統(EDI電除鹽系統、拋光混床系統、紫外線殺菌、臭氧發生器、二氧化氯等)。


     

    應用場合

    1、電子工業用水:半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路;超純材料和超純化學試劑、超純化工材料;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏;高品質顯像管、螢光粉生產;半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗;實驗室和中試車間;光電產品;其他高科技精微產品。

    2、精密機械行業用水:汽車零部件的生產加工;飛機、汽車發動機葉片的生產加工;打印機、傳真機激光頭的生產加工;光驅、硬盤的讀寫磁頭及盤片的生產加工;其他對產品有特殊要求的精密機械產品的生產加工。

    3、電廠鍋爐行業用水:符合或行業鍋爐給水標準(GB1576-79、DL/T561-95),適合中、高壓鍋爐補水水質要求。電阻率在0.5-10MΩ.cm的(超)純水。

    4、精細化工行業用水:化工材料的生產和加工過程所用的溶劑及清洗過程;電子半導體、集成電路板上用到的化工材料;石英、硅材料生產、加工、提純;高純墨水、傳真打印機中的噴墨、納米墨水。

    5、電鍍涂裝行業用水:電鍍涂裝行業中,為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力,電鍍液的配制需要用電導率在15uS/cm-5uS/cm以下的純水,另外在鍍件漂洗時也需用電導率在10uS/cm以下純水來清洗,此外超濾和反滲透還可以用來回收漂洗液中的貴重金屬離子,滲透過來的水再返回作鍍件清洗之用。  

    工業反滲透設備選型性能參數 》點擊查看詳情

    反滲透膜清洗服務

    反滲透裝置盡管采用了合理的預處理系統,和良好的運行管理,它只能使反滲透膜的污染程度降到最低限度,要完全消除膜的污染是不可能的。因此,反滲透裝置在正常運行一段時間之后,將受到各種微量有機物、無機物的污染。當膜受到污染后,往往會出現反滲透裝置的產水量、脫鹽率和裝置進出口壓力降增大等明顯征狀。當裝置的產水量下降10%(在同溫度和壓力下),鹽透過量增加一倍,壓降增加一倍,這三種現象出現其中一個時,進行化學清洗是必要的。同時當反滲透裝置需要長期停用而進行保護之前,也需要進行化學清洗。值得注意的是,如果進水溫度降低也會導致產水量下降,這是正常的,并不表明膜被污染,預處理、高壓等方面產生故障也會導致進水壓力、進水流量、產水流量和脫鹽率的下降?;瘜W清洗時,首先是要判斷污染物的種類,然后根據膜的特性選擇合適的清洗配方和清洗工藝。要注意控制清洗液的PH值、溫度和每根組件的進入流量,清洗效果可以通過比較清洗前后裝置的脫鹽率、產水量和壓力降等性能來確認,除了周期性的化學清洗之外,每次停車之后,用預處理水或反滲透水進行低壓大流量沖洗,這對于降低膜污染的速度,延長化學清洗的周期和膜的使用壽命是有效的。

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